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      化學氣相沉積金剛石均質噴嘴

      名稱化學氣相沉積金剛石均質噴嘴公開號2423289公開日2001.03.14主分類號C23C16/27

      日期 2010-12-23   

      化學氣相沉積法碳化硅連續纖維用碳芯的制備方法

      名稱化學氣相沉積法碳化硅連續纖維用碳芯的制備方法公開號1103904公開日1995.06.21主分類號D01F9/155

      日期 2010-12-22   

      回旋電子增強熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法

      名稱回旋電子增強熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法公開號1355330公開日2002.06.26主分類號C23C1

      日期 2010-12-21   

      光子-熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法

      名稱光子-熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法公開號1355329公開日2002.06.26主分類號C23C1

      日期 2010-12-21   

      一種熱絲化學氣相沉積金剛石的設備

      名稱一種熱絲化學氣相沉積金剛石的設備公開號2283067公開日1998.06.03主分類號C23C16/26&nbs

      日期 2010-12-21   

      化學氣相沉積金剛石聚晶金剛石復合型金剛石材料及應用

      名稱化學氣相沉積金剛石聚晶金剛石復合型金剛石材料及應用公開號CN1504591公開日2004.06.16主分類號C

      一種復合激光化學氣相沉積金剛石膜的方法

      名稱一種復合激光化學氣相沉積金剛石膜的方法公開號1221806公開日1999.07.07主分類號C23C16/26&

      日期 2010-12-10   

      一種大面積高速度熱絲化學氣相沉積金剛石的方法及設備

      名稱一種大面積高速度熱絲化學氣相沉積金剛石的方法及設備公開號1160089公開日1997.09.24主分類號C23C

      日期 2010-12-10   

      一種激光化學氣相沉積金剛石膜的方法

      名稱一種激光化學氣相沉積金剛石膜的方法公開號1122378公開日1996.05.15主分類號C23C16/26&nb

      日期 2010-12-10   

      韌化的化學氣相沉積金剛石

      名稱韌化的化學氣相沉積金剛石公開號1112904公開日1995.12.06主分類號C01B31/06

      日期 2010-12-10   

      弧光放電化學氣相沉積金剛石薄膜的方法

      名稱弧光放電化學氣相沉積金剛石薄膜的方法公開號1041187公開日1990.04.11主分類號C23C16/26&n

      日期 2010-12-09   

      化學氣相沉積層技術在切削上的應用

      化學氣相沉積層的優點是:膜層致密,與基體結合牢固,沉積性好,膜厚且比較均勻,膜層質量比較穩定,易于實現大批量生產等。近幾年來,cvD技術已廣泛應用于機械和儀表零件、刀具...

      日期 2009-01-19   

      物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層

      物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層
      物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層
      物理氣相沉積(PVD)制備氧化鋁涂層

      1引言由于氧化鋁薄膜具有令人關注的優異性能,如高溫穩定性、化學穩定性、低的熱導率和電導率等,目前利用化學氣相沉積(CVD)涂覆氧化鋁薄膜作為耐磨涂層材料已廣泛應用于硬質...

      日期 2008-03-07   

      何為化學氣相沉積(CVD)?

      CVD是ChemicalVaporDeposition的簡稱,是指高溫下的氣相反應,例如,金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解,氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生...

      日期 2008-02-17   

      SP3公司新近推出雙反應釜化學氣相沉積設備

      美國SP3公司近期推出新型熱絲化學氣相沉積設備——Model665。這一新型雙反應釜設備可一次性容納18片直徑為100毫米的基體,這意味著其沉積...

      日期 2010-10-25   

      法IonBond氣相沉積涂層新基地投入運營

      法國OLTEN消息,法國IonBondPVD涂料公司近日宣布,隨著公司業務規模的不斷擴大,IonBond將原設在Neuilly-en-Thelle地區的業務遷入Bert...

      日期 2008-08-08   
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