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光子－熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法

關鍵詞化學 , 氣相沉積 , 金剛石薄膜 |2010-12-21 00:00:00|行業專利|來源中國超硬材料網

摘要名稱光子－熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法公開號1355329公開日2002.06.26主分類號C23C1

名稱	光子－熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法
公開號	1355329	公開日	2002.06.26
主分類號	C23C16/27	分類號	C23C16/27;C23C16/48
申請號	00132595.7
分案原申請號		申請日	2000.11.30
頒證日		優先權
申請人	黑龍江省光電技術研究所	地址	157000黑龍江省牡丹江市光華街106－1號
發明人	申家鏡;邵春雷;彭鴻雁;魏雪峰	國際申請
國際公布		進入國家日期
專利代理機構		代理人
摘要	本發明公開了一種光子－熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法，其特征是在熱絲化學氣相沉積的工藝中，同時采用波長為 3.5μm的紅外光對生長襯底表面進行照射。本發明可提高原料氣體的分解率，從而提高金剛石膜的沉積速度，改善金剛石膜的質量

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