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      專利:藍(lán)寶石襯底的超精密加工方法

      關(guān)鍵詞 藍(lán)寶石 , 襯底|2013-08-31 09:46:41|行業(yè)專利|來(lái)源 中國(guó)超硬材料網(wǎng)
      摘要 申請(qǐng)?zhí)枺?01310204706申請(qǐng)人:南京航空航天大學(xué)摘要:本發(fā)明公開(kāi)了一種基于固結(jié)磨料拋光墊的藍(lán)寶石襯底的超精密加工方法,它主要包括粗磨、精磨、拋光三步驟:首先,采用W
        申請(qǐng)?zhí)枺?01310204706

             申請(qǐng)人:南京航空航天大學(xué)

             摘要:本發(fā)明公開(kāi)了一種基于固結(jié)磨料拋光墊的藍(lán)寶石襯底的超精密加工方法,它主要包括粗磨、精磨、拋光三步驟:首先,采用W75的鍍鎳金剛石固結(jié)磨料研磨拋光墊(FAP)對(duì)切割后的藍(lán)寶石毛坯進(jìn)行粗磨,其次,采用W28的鍍鎳金剛石FAP對(duì)粗磨后的工件進(jìn)行精磨,最后,采用W5的金剛石FAP對(duì)精磨后的工件進(jìn)行拋光,即完成研磨和拋光過(guò)程。本發(fā)明加工藍(lán)寶石襯底,整個(gè)工藝過(guò)程縮短到2小時(shí)以內(nèi),大大縮短藍(lán)寶石的加工時(shí)間,最終可以得到工件表面粗糙度Ra小于3nm的藍(lán)寶石襯底,并可有效去除坑蝕、劃痕等表面缺陷,且亞表面損傷低,表面質(zhì)量?jī)?yōu)。本發(fā)明提高了藍(lán)寶石襯底的加工效率和表面質(zhì)量,并且成本低,無(wú)污染。

             獨(dú)立權(quán)利要求:1.一種基于固結(jié)磨料拋光墊的藍(lán)寶石襯底的超精密加工方法,其特征是包括以下步驟:  (1)采用W75的鍍鎳金剛石固結(jié)磨料研磨拋光墊FAP對(duì)切割后的藍(lán)寶石毛坯進(jìn)行粗磨,控制環(huán)境溫度為10~30℃,研磨壓力在0.1~0.3Mpa,拋光液流量為100~300ml/min,工作臺(tái)轉(zhuǎn)速為75~150r/min,粗磨時(shí)間控制在5~10min;  (2)采用W28的鍍鎳金剛石固結(jié)磨料研磨拋光墊FAP對(duì)粗磨后的工件進(jìn)行精磨,控制環(huán)境溫度為10~30℃,研磨壓力在0.05~0.2Mpa,拋光液流量為100~300ml/min,工作臺(tái)轉(zhuǎn)速為75~150r/min,精磨時(shí)間控制在15~30min;  (3)采用W5的金剛石FAP對(duì)精磨后的藍(lán)寶石進(jìn)行拋光,控制拋光溫度在10~30℃,拋光壓力控制在0.025~0.1Mpa,拋光液流量為100~200ml/min,拋光轉(zhuǎn)速為100~200r/min,拋光液pH值控制在8~11,拋光時(shí)間控制在40~90min,即完成研磨和拋光過(guò)程。  2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于所述的固結(jié)磨料研磨拋光墊為樹(shù)脂和金剛石磨料均勻混合固化制備而成。  3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于所述步驟(1)和(2)使用的固結(jié)磨料研磨拋光墊中采用鍍鎳金剛石磨料,鍍鎳金剛石為金剛石粉末顆粒表面電鍍一層氧化鎳,鍍覆后金剛石質(zhì)量增加到原來(lái)的110%~200%。  4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于所述步驟(3)使用的固結(jié)磨料研磨拋光墊中采用沒(méi)有鍍鎳的普通金剛石。  5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于所有拋光液均為由去離子水和多種化學(xué)添加劑組成,并滿足下述公式:W=Aα+Bβ+Cγ+Dμ+Eη,式中W為拋光液體積總量1,A為去離子水在拋光液中所占的最高體積分?jǐn)?shù),B為三乙醇胺在拋光液中的最高體積分?jǐn)?shù),C為烷基酚聚氧乙烯醚在拋光液中的最高體積分?jǐn)?shù),D為乙二胺在拋光液中的最高體積分?jǐn)?shù),E為丙三醇在拋光液中的最高體積分?jǐn)?shù),α、β、γ、μ、η分別為A、B、C、D、E實(shí)際添加量的系數(shù)。  6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于A的值為90%,B的值為20%,C的值為10%,D的值為10%,E的值為20%。  7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,α、β、γ、μ、η的取值范圍如下  0.8≤α≤1  0≤β≤1  0.3≤γ≤1           0≤μ≤1  0≤η≤1。  8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述每一步驟完成后,都要將所述工件和拋光 設(shè)備清洗干凈,并且隨后執(zhí)行下一步驟研磨或拋光。  
       

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