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      一種CVD法制備大面積BDD電極的預處理方法

      關鍵詞 CVD , BDD電極|2017-01-17 09:12:28|行業專利|來源 中國超硬材料網
      摘要 申請號:201610866336.5申請人:昆山美淼環保科技有限公司發明人:劉雅妮左衛雄摘要:一種CVD法制備大面積BDD電極的預處理方法。CVD法是制備金剛石電極的通用方法,制備...
        申請號:201610866336.5
        申請人:昆山美淼環保科技有限公司
        發明人:劉雅妮 左衛雄

        摘要:一種CVD法制備大面積BDD電極的預處理方法。CVD法是制備金剛石電極的通用方法,制備出大面積金剛石電極的關鍵是預處理,即在基材表面形成大量、均勻的孔,進一步在孔內種植大量、均勻的金剛石晶種。本發明的合金電鍍法是基材表面形成大量、均勻的孔的良好方法。將基材鈦或鈮作為陰極,鈦或鈮的氯化物與氯化鐵的混合物作為電鍍液,進行電鍍處理,鈦或鈮與鐵的合金鍍在陰極表面后,陰極取出,用鹽酸浸泡,以溶解出合金中的鐵,溶出鐵后,陰極表面留下均勻的孔。

        主權利要求:1.將基材鈦或鈮作為陰極,鈦或鈮的氯化物與氯化鐵的混合物作為電鍍液,進行電鍍處理,鈦或鈮與鐵的合金鍍在陰極表面后,陰極取出,用鹽酸浸泡,以溶解出合金中的鐵,溶出鐵后,陰極表面留下均勻的孔,在孔內種植金剛石的微晶后,即可作為CVD法制備大面積BDD電極的基材。
        2.如權利要求1所述的電鍍工藝,陰極鍍層的厚度為2~20微米,優選為6~12微米。
        3.如權利要求1所述的電鍍工藝,鐵鹽與鈦鹽或鈮鹽的比例用于控制基材表面的孔的大小,其摩爾比例為1:3~30,優選為1:5~10。
        4.如權利要求1所述的電鍍工藝,電流密度50~300安/平米,優選為80~120安/平米。
        5.如權利要求1所述的方法,鹽酸侵泡的溫度在50~60攝氏度,鹽酸濃度不低于1%,浸泡時間不低于5小時。
       

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