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直流電弧噴射沉積金剛石裝置

關鍵詞直流 , 電弧噴射 , 沉積 , 金剛石 , 裝置 |2010-12-24 00:00:00|行業專利|來源中國超硬材料網

摘要名稱直流電弧噴射沉積金剛石裝置公開號2139581公開日1993.08.04主分類號C23C16/26

名稱	直流電弧噴射沉積金剛石裝置
公開號	2139581	公開日	1993.08.04
主分類號	C23C16/26	分類號	C23C16/26;C23C16/50
申請號	92236738.8
分案原申請號		申請日
頒證日		優先權
申請人	北京理工大學	地址	100081北京市海淀區白石橋路7號
發明人	李榮志; 丁洪生; 朱鶴孫; 閻震	國際申請
國際公布		進入國家日期
專利代理機構	北京理工大學專利事務所	代理人	付雷杰
摘要	一種直流電弧噴射沉積金剛石的裝置，由真空室、裝在真空室上的帶由噴槍體支承的陰極、陽極的噴射裝置及鍍膜基底組成，陰極和陽極之間裝有一個以上屏蔽罩，屏蔽罩底部裝有屏蔽噴嘴，該屏蔽噴嘴有約束電弧等離子體和穩定電極上的電弧斑點的作用，從而不需要很大原料氣體流量，原料氣體通過電弧放電區距離長，這種裝置沉積金剛石效果好。

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