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      鄭州華晶金剛石股份有限公司

      日本開發出能使晶面平坦度達原子水平的新型研磨技術

      關鍵詞 研磨技術|2023-06-20 11:17:09|來源 中國超硬材料網
      摘要 東京大學研究人員通過一邊澆水一邊用丙烯酸板研磨硅基板,成功達到了原子水平的平坦度。整個過程不使用藥液和拋光磨粒,硅基板表面粗糙度實現僅0.037納米,加工成本僅水費和電費。相關論文...

             東京大學研究人員通過一邊澆水一邊用丙烯酸板研磨硅基板,成功達到了原子水平的平坦度。整個過程不使用藥液和拋光磨粒,硅基板表面粗糙度實現僅0.037納米,加工成本僅水費和電費。相關論文發表在《Applied Physics Letters》上。

             其工作原理是,將研磨對象推壓于邊潑水邊旋轉的丙烯板,丙烯板表面會因丙烯酸樹脂發生水解而排滿羧酸,起到化學研磨的作用。

             這一新技術只使用水而不使用微粒和藥液,且丙烯板也是可大量生產的通用品,未來有望應用于半導體基板研磨,并在減輕環境負荷的同時降低生產成本。

       

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