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官方微信摘要 名稱用類金剛石碳鍍覆刃口的方法公開(kāi)號(hào)1260843公開(kāi)日2000.07.19主分類號(hào)C23C16/26
| 名稱 | 用類金剛石碳鍍覆刃口的方法 | ||
| 公開(kāi)號(hào) | 1260843 | 公開(kāi)日 | 2000.07.19 |
| 主分類號(hào) | C23C16/26 | 分類號(hào) | C23C16/26 |
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong> | 98806296.8 | ||
| 分案原申請(qǐng)?zhí)?/strong> | 申請(qǐng)日 | 1998.06.11 | |
| 頒證日 | 優(yōu)先權(quán) | [32]1997.6.18[33]US[31]08/878,222 | |
| 申請(qǐng)人 | 東北大學(xué) | 地址 | 美國(guó)馬薩諸塞 |
| 發(fā)明人 | J·A·霍普伍德; D·L·帕帕斯 | 國(guó)際申請(qǐng) | PCT.US98/12270 1998.6.11 |
| 國(guó)際公布 | WO98.58097 英 1998.12.23 | 進(jìn)入國(guó)家日期 | 1999.12.16 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人 | 段承恩 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及在基體（22）上形成類金剛石碳膜的方法，包括的步驟為：將所述基體暴露在一種烴類氣體環(huán)境中，并且，在所述環(huán)境中，在高離子通量和可控的、低離子能量轟擊的條件下，產(chǎn)生電子密度大于約5×10#+[10]／cm#+[3]和覆層厚度小于約2mm的等離子體。而且，本發(fā)明還涉及一種制成品，它包括：具有一個(gè)表面的基體和在所述表面上的類金剛石碳膜，其中所述膜的硬度高于約20GPa，而且，在采用場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，在50，000X的放大倍數(shù)下觀察時(shí)，所述膜中不存在可分辨的直徑等于或大于300Ａ的晶?！ ?/td> | ||
豫公網(wǎng)安備41019702003646號(hào)