一種低溫鍍復(fù)金剛石薄膜的方法及設(shè)備
關(guān)鍵詞 低溫 , 復(fù)金剛石薄膜|2010-12-10 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱一種低溫鍍復(fù)金剛石薄膜的方法及設(shè)備公開號1138635公開日1996.12.25主分類號C23C16/26&nb
名稱 |
一種低溫鍍復(fù)金剛石薄膜的方法及設(shè)備 |
公開號 |
1138635 |
公開日 |
1996.12.25 |
主分類號 |
C23C16/26 |
分類號 |
C23C16/26 |
申請?zhí)?/strong> |
95111077.2 |
分案原申請?zhí)?/strong> |
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申請日 |
1995.06.16 |
頒證日 |
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優(yōu)先權(quán) |
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申請人 |
南京大學(xué); 南京大學(xué)天地金鋼石鍍膜技術(shù)開發(fā)中心 |
地址 |
210093江蘇省南京市漢口路22號 |
發(fā)明人 |
王志超 |
國際申請 |
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國際公布 |
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進入國家日期 |
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專利代理機構(gòu) |
南京大學(xué)專利事務(wù)所 |
代理人 |
黃嘉棟 |
摘要 |
一種鍍復(fù)金剛石薄膜的方法和設(shè)備,它是應(yīng)用高頻等離子體化學(xué)汽相沉積法以一氧化碳和氮氣為氣源,在襯底表面鍍覆金剛石薄膜。用本發(fā)明的方法可以在室溫至500℃溫度下鍍覆金剛石薄膜,因而在塑料、鋼、鐵等襯底表面都能鍍覆金剛石薄膜。本發(fā)明的鍍覆設(shè)備價廉易行,可適用于不同大小和形狀的工件。 |
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