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      采用金剛石覆層的場致發(fā)射電子源及其制造方法

      關鍵詞 金剛石覆層 , 發(fā)射電子源|2010-12-09 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網
      摘要 名稱采用金剛石覆層的場致發(fā)射電子源及其制造方法公開號1069826公開日1993.03.10主分類號H01J1/30

       

      名稱 采用金剛石覆層的場致發(fā)射電子源及其制造方法 
      公開號 1069826  公開日 1993.03.10   
      主分類號 H01J1/30  分類號 H01J1/30;H01J9/02 
      申請?zhí)?/strong> 92105465.3   
      分案原申請?zhí)?/strong>   申請日 1992.07.06   
      頒證日   優(yōu)先權 [32]1991.8.20[33]US[31]747,563 
      申請人 莫托羅拉公司  地址 美國伊里諾斯  
      發(fā)明人 詹姆斯·E·杰斯克; 羅伯特·C·肯尼    國際申請  
      國際公布    進入國家日期  
      專利代理機構 中國國際貿易促進委員會專利代理部    代理人 范本國   
      摘要   本發(fā)明為一場致發(fā)射電子裝置,該裝置采用了一個包括一個金剛石材料覆層的電子發(fā)射器,上述的金剛石覆層位于有選擇地形成的導電/半導體電極(402)的表面上。本發(fā)明還涉及形成該裝置的方法,該方法包括將碳離子植入導體半導體電極的一個表面使之在金剛石形成時得到成核點的作用這一步驟。    
       

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