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　　申請號：201680002430.4
　　申請人：新明和工業株式會社
　　發明人：植村賢介 阿列克謝·G·列姆涅夫

　　摘要： 本發明以提供一種除膜方法為技術問題，該除膜方法是對由像PCD(聚晶金剛石)那樣的無機物包覆的刀具、機械零件等進行除膜以能夠進行再利用的方法，進行離子照射時在被除膜基材(包覆件)不易產生死角，在溫度方面在基材(金屬制構件)不易產生脆性相，并且，能夠經濟且快速地進行除膜。該除膜方法是向在金屬制構件的表面附著由無機物構成的覆膜而成的包覆件(1)照射離子流(7)、從所述金屬制構件剝離所述覆膜的除膜方法，其特征在于，將包覆件(1)設置在兩個以上的離子流(7)重疊的離子流集中部(7A)，不向包覆件(1)施加正負偏壓地向包覆件(1)照射離子流(7)，利用這樣的除膜方法能夠解決所述技術問題。

　　主權利要求：1.一種除膜方法，其是向在金屬制構件的表面附著由無機物構成的覆膜而成的包覆件照射離子流、從所述金屬制構件剝離所述覆膜的除膜方法，其特征在于，將所述包覆件設置于兩個以上的離子流重疊的離子流集中部，使所述包覆件向大地接地，向所述包覆件照射所述離子流。