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　　申請?zhí)枺?01610040882.3
　　申請人：中國電子科技集團公司第三十八研究所
　　發(fā)明人：鄭磊 劉華榮 王俊聽 羅婷婷 李藝晶

　　摘要：本發(fā)明公開了一種金剛石射線靶、制備方法及應(yīng)用，包括金剛石片、窗口封接環(huán)和薄膜陽極，所述金剛石片通過焊料焊接在窗口封接環(huán)上，所述薄膜陽極沉積在金剛石片朝向電子束的一面。在窗口封接環(huán)上開設(shè)連接孔，連接孔的兩端為臺階面，將焊料放入臺階面，再將金剛石片放入臺階面上，焊接過程中確保金剛石壓緊焊接在窗口封接環(huán)上；焊接后，將金剛石片以外的部分擋住，在金剛石朝向電子束的一面沉積薄膜陽極。通過優(yōu)化鍍膜工藝和焊接工藝，使透射式X射線管金剛石窗口、薄膜陽極、散熱層三者之間具有良好的熱力學(xué)接觸性能，可提高微焦點X射線管連續(xù)使用時的可靠性。

　　主權(quán)利要求：1.一種金剛石射線靶，其特征在于，包括金剛石片、窗口封接環(huán)和薄膜陽極，所述金剛石片通過焊料焊接在窗口封接環(huán)上，所述薄膜陽極沉積在金剛石片朝向電子束的一面。
　　2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金剛石射線靶，其特征在于，所述窗口封接環(huán)上開設(shè)連接孔，所述連接孔的兩端為臺階面，所述金剛石片的端部放置在所述臺階面上并通過焊料焊接在所述臺階面上。
　　3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金剛石射線靶，其特征在于，所述射線靶還包括散熱層，所述散熱層鍍膜于所述薄膜陽極朝向電子束的一面。
　　4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金剛石射線靶，其特征在于，所述薄膜陽極的厚度為1～10μm，所述金剛石的厚度為0.05～0.3mm。
　　5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金剛石射線靶，其特征在于，所述金剛石片為化學(xué)氣相沉積法制備得到，所述薄膜陽極朝向電子束的一面為所述金剛石片的成核面。
　　6.一種如權(quán)利要求1所述的金剛石射線靶的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：(1)在窗口封接環(huán)上開設(shè)連接孔，連接孔的兩端為臺階面，將焊料放入臺階面，再將金剛石片放入臺階面上，焊接過程中確保金剛石壓緊焊接在窗口封接環(huán)上；(2)焊接后，將金剛石片以外的部分擋住，在金剛石朝向電子束的一面沉積薄膜陽極。
　　7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種金剛石射線靶的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括步驟(3)，在薄膜陽極上朝向電子束的一面上鍍膜散熱層。
　　8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種金剛石射線靶的制備方法，其特征在于，所述薄膜陽極選自鎢、鉬、無氧銅或金中的任一種材料制備而成。
　　9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種金剛石射線靶的制備方法，其特征在于，所述焊接方式為真空釬焊或氬氣保護釬焊，焊料選自銀、銅、鈦、金的一種或多種。
　　10.一種金剛石射線靶在透射式微焦點X射線管中的應(yīng)用。