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官方微信摘要 名稱(chēng)復(fù)雜形狀CVD金剛石/類(lèi)金剛石復(fù)合涂層刀具制備方法申請(qǐng)?zhí)?01210124337申請(qǐng)日2012年4月25日公開(kāi)號(hào)102650053A
| 名稱(chēng) | 復(fù)雜形狀CVD金剛石/類(lèi)金剛石復(fù)合涂層刀具制備方法 | ||
| 申請(qǐng)?zhí)?/strong> | 201210124337 | 申請(qǐng)日 | 2012年4月25日 |
| 公開(kāi)號(hào) | 102650053A | 公開(kāi)日 | 2012年8月29日 |
| 申請(qǐng)人 | 上海交通大學(xué) 上海澳尼森特種表面處理技術(shù)有限公司 | 地址 | 上海市閔行區(qū)東川路800號(hào) |
| 發(fā)明人 | 沈彬 孫方宏 阮華權(quán) 顧寶龍 張志明 | 主分類(lèi)號(hào) | C23C 28/04 |
| 國(guó)家/省市 | 中國(guó)上海( 31 ) | 分類(lèi)號(hào) | C23C 28/04 C23C 16/44 C23C 16/27 C23C 14/35 C23C 14/06 |
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種復(fù)雜形狀ＣＶＤ金剛石／類(lèi)金剛石復(fù)合涂層刀具的制備方法。采用熱絲ＣＶＤ法在刀具表面沉積一層ＭＣＤ薄膜，在沉積過(guò)程中采用負(fù)偏壓產(chǎn)生離子轟擊保證ＭＣＤ薄膜具有光滑表面；隨后繼續(xù)沉積一層ＤＬＣ薄膜，在初始階段，用正負(fù)脈沖離子電源對(duì)涂覆了ＭＣＤ薄膜的刀具表面進(jìn)行離子轟擊，以清除刀具表面的雜質(zhì)，并去除涂層表面尖銳的晶粒棱角，增加涂層平整度，提高涂層表面活性，達(dá)到增強(qiáng)層間附著強(qiáng)度的效果。采用本發(fā)明的制備方法能夠在具有復(fù)雜形狀表面的整體式硬質(zhì)合金刀具表面沉積獲得具有優(yōu)異膜－基附著強(qiáng)度、表面耐磨減摩及自潤(rùn)滑特性的ＣＶＤ金剛石／類(lèi)金剛石復(fù)合涂層，該復(fù)合涂層還具有內(nèi)應(yīng)力低、表面光滑平整、厚度均勻等特點(diǎn)。 | ||
| 獨(dú)立權(quán)利要求 | １．一種復(fù)雜形狀ＣＶＤ金剛石／類(lèi)金剛石復(fù)合涂層刀具制備方法，其特征在于，包括如下步驟：步驟一：采用熱絲ＣＶＤ法在經(jīng)過(guò)預(yù)處理后的復(fù)雜形狀整體式硬質(zhì)合金刀具表面沉積一層ＭＣＤ薄膜；步驟二：采用磁控等離子濺射法在涂覆了ＭＣＤ薄膜的涂層刀具表面繼續(xù)沉積一層ＤＬＣ薄膜，即可。 | ||
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