申請人：南京航空航天大學(xué)
專利號：CN102242374A
一種鈦基摻硼金剛石涂層電極的制備方法，它是通過在基底材料上濺射過渡層，再在此基礎(chǔ)上CVD法沉積摻硼金剛石涂層來實現(xiàn)的。由基材、過渡層和金剛石層構(gòu)成的電極，其特征在于所述的基材為鈦，過渡層為通過磁控濺射的鈮或鉭，CVD工藝中使用摻硼濃度為6000-10000ppm。本發(fā)明提供了長壽、高電解率的BDD電極的制備方法，它具有成本低，高重復(fù)性的優(yōu)點。
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金融界2025年1月14日消息，國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，深圳市海明潤超硬材料股份有限公司申請一項名為“一種聚晶金剛石復(fù)合片及其制備方法”的專利，公開號CN119282120A，申請...
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金融界2024年11月26日消息，國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，鄭州三磨超硬材料有限公司申請一項名為“一種陶瓷材料開槽用金屬結(jié)合劑砂輪及其制備方法”的專利，公開號CN119017279A...
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