| 名稱 | 金剛石涂層電極處理難降解廢水的工藝 | ||
| 公開號 | 1336334 | 公開日 | 2002.02.20 |
| 主分類號 | C02F1/461 | 分類號 | C02F1/461 |
| 申請號 | 01126814.X | ||
| 分案原申請號 | 申請日 | 2001.09.20 | |
| 頒證日 | 優先權 | ||
| 申請人 | 上海交通大學 | 地址 | 200030上海市華山路1954號 |
| 發明人 | 賈金平;王亞林;何賢昶;張志明;沈荷生;沈璐 | 國際申請 | |
| 國際公布 | 進入國家日期 | ||
| 專利代理機構 | 上海交通大學專利事務所 | 代理人 | 毛翠瑩 |
| 摘要 | 一種金剛石涂層電極處理難降解廢水的工藝，采用性能優越、電位窗口較寬的CVD摻硼金剛石涂層電極作為電解處理廢水的陽極或陰極，電極相互平行并垂直置于電解槽中，電解槽中鋪上固體催化劑及溶液中添加電解質，以提高電流效率和導電性。本發明選用以拋光硅片為襯底的普通摻硼金剛石涂層電極或以金屬鎢、碳化硅為襯底的納米摻硼金剛石涂層電極，利用其優越的性能，滿足電化學法處理廢水的需求，具有能耗低、電極壽命長、應用范圍廣的 | ||
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